立法院於16日通過「專利法部分條文修正草案」，將設計專利權保護期間由12年延長為15年，以利我國設計產業發展；鬆綁發明及新型專利核准審定之分割限制；可提升專利救濟案件的審查效能，建立更完善的專利保護制度。

本次修正條文共計17條，修正重點如下：

一、擴大核准審定後分割之適用範圍及期限

   不侷限專利發明，新型專利亦適用。另外此次放寬發明專利申請案於初審核准審定書或再審查核准審定書送達後3個月內得申請分割，將有利企業有充分時間思考，是否提出「專利分割」。

二、提升舉發審查效能

    為避免舉發程序中，雙方當事人不斷補提理由、證據或提出更正，因而延宕審查，此次修正期限將由1個月延長至3個月，逾期不予審酌。

三、修正新型得申請更正案之期間及審查方式

    因新型專利未經實質審查，為避免新型專利權利範圍可事後透過更正任意更動，從而影響第三人權益，修正新型專利得申請更正之時間點，且由目前形式審查改採實質審查。

四、設計專利權期限12年延長為15年

    將有助於我國設計產業之發展。

五、解決專利檔案儲存空間不足之困擾

    依現行規定專利檔案須永久保存，也造成須不斷擴增檔案儲存空間之嚴重問題，參考國際規範修正為分類定期保存，無保存價值者可定期銷燬，以解決檔案儲存空間不足之困境。

智慧局透過此次修法，提升專利審查效能，有利企業專利布局並促進台灣工業設計之發展。【記者 蔡青芸整理報導】